万众瞩目的photokina 2016大展在德国科隆已经落下帷幕。两年一届的世界影像博览会（photokina）是照相与成像工业领域领先的展览会，也是新品集中发布的日子，NiSi耐司此次携九款新品亮相科隆展。
NiSi耐司在Photokina 2016展览上邀请了六位国外摄影师为观众展示新产品，得到现场众多摄影师的认可。
NiSi耐司滤镜开发的光学玻璃纳米镀膜方镜产品品种齐全，现场进行了NiSi滤镜与某知名品牌滤镜的防水对比测试。
NiSi无处不在
国外摄影师为观众展示NiSi新品
观众现场体验NiSi产品
随着 Photokina 2016展览的顺利结束,NiSi Filters 有信心为摄影爱好者提供更优质的服务。
编辑/Eva
